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삼성 D램 혁신 (High-NA EUV, 포토마스크, ASML 협력)

반도체 뉴스를 보다 보면 EUV니 D램이니 하는 용어들이 쏟아지는데, 솔직히 처음엔 그냥 흘려듣기 일쑤였습니다. 그런데 2028년을 목표로 삼성전자가 ASML과 손잡고 차세대 High-NA EUV 장비를 D램 양산에 실제 적용하겠다는 소식을 접하고 나서, 이건 그냥 지나칠 뉴스가 아니라는 생각이 들었습니다. 장비를 구매하는 수준을 넘어서 포토마스크 표준까지 함께 만든다는 대목에서 특히 눈길이 멈췄습니다. High-NA EUV, 숫자 하나가 바꾸는 것들반도체 관련 기사를 꾸준히 읽어오면서 제가 처음으로 "이 숫자가 진짜 중요하구나" 싶었던 순간이 있었습니다. 바로 개구수(NA, Numerical Aperture) 이야기를 처음 제대로 이해했을 때였습니다. 여기서 개구수란 빛을 얼마나 넓은 각도로 모을 수 ..

카테고리 없음 2026. 9. 9. 07:58
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